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华体会hth登录-日本 Resonac 将半导体制造过程中排放的塑料垃圾转化为气体
来源：共鸣塑趋势PlasTrends Resonac Corporation 已开始考虑回收半导体制造过程中排放的塑料废物，并将其重新用作半导体制造材料。它将通过应用公司的塑料化学回收技术来实现这一目标塑料垃圾并将其转化为氢气和二氧化碳。Resonac于今年1月下旬进行了第一次验证测试，并确认气化过
2025-07-06 -
华体会hth登录-首批芯片研发设施时间表已确定
来源：AIP计划在未来四年内投入运营的三座设施将成为国家半导体技术中心的支柱。近日，美国商务部宣布了首批三个半导体研发设施的选址程序，这些设施将组成国家半导体技术中心，这是一项由美国《芯片和科学法案》资助的数十亿美元的计划。国家半导体技术中心的运营机构Natcast打算在未来四年内使这些设施投入运营
2025-07-06 -
华体会hth登录-Adisyn宣布与2D Generation建立战略合作，推动AI和半导体技术发展
来源：Investing News NetworkAdisyn公司已与在以色列注册成立的著名国际半导体 IP 企业 2D Generation Ltd（“2D Generation”）签订了具有约束力的合作协议（“合作协议”）。此次合作旨在利用Adisyn在数据中心管理、托管IT服务和网络安全方面的
2025-07-06 -
华体会hth登录-AI芯片热潮助力半导体设备巨头ASML的订单猛增
来源：SCMPMihuzo分析师Kevin Wang 表示，ASML 第二季度订单预计将达到近 54 亿美元，高于普遍预期作为半导体制造商最大的设备供应商，ASML预计近期其新任首席执行官发布第二季度业绩时报告有新订单涌入，因为客户正在扩大产能以满足对人工智能 (AI) 芯片的旺盛需求。另一个关注点
2025-07-05 -
华体会hth登录-国产厂商引入首台光刻机设备！
来源：宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的重点设备。光掩模版是集成电路制造过程中光刻工艺所使用的关键部件，类似于相机“底片”，光线经过掩膜版后，可在晶圆表面曝光形成
2025-07-05
